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苹果屏下Face ID技术取得突破,有望告别药丸屏设计

导读 苹果在实现iPhone真全面屏形态上遇到的最大挑战是屏下Face ID技术。由于Face ID系统复杂,其关键组件在当前技术下难以完全隐藏于屏幕下方...

苹果在实现iPhone真全面屏形态上遇到的最大挑战是屏下Face ID技术。由于Face ID系统复杂,其关键组件在当前技术下难以完全隐藏于屏幕下方,因此苹果目前采用妥协的药丸屏方案。

近日,苹果获得了一项屏下Face ID专利,解决了屏下摄像头的技术难题。该专利通过删除部分子像素,提高红外光透光率,实现屏下人脸识别。这一方案不会影响显示效果,并预计将在2026年的iPhone 18系列上应用,届时iPhone将采用单挖孔屏设计,告别药丸屏。

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